NB/SH/T 0863-2013 流化催化裂化催化剂中化学元素X射线荧光光谱法测定指南

规定了用 XRF 对流化催化裂化(FCC)催化剂中 29 种化学元素进行定量分析时可供选择的几种方法,也可扩展到其他元素。

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适用范围

规定了用 XRF 对流化催化裂化(FCC)催化剂中 29 种化学元素进行定量分析时可供选择的几种方法,也可扩展到其他元素。29 种元素:铝(Al)、硅(Si)、铁(Fe)、镍(Ni)、钒(V)、钠(Na)、硫(S)、磷(P)、镧(La)、铈(Ce)、镁(Mg)、钾(K)、钙(Ca)、钡(Ba)、钛(Ti)、钴(Co)、铜(Cu)、铅(Pb)、锌(Zn)、锑(Sb)、锡(Sn)、锰(Mn)、钼(Mo)、锶(Sr)、锆(Zr)、铋(Bi)、镨(Pr)、钕(Nd)、钐(Sm)。 1.2 适用于 FCC 新鲜催化剂、FCC 平衡剂、FCC 待生剂、FCC 催化剂粉。 1.3 涉及某些有危险性的材料、操作和设备,但未对与此有关的所用安全问题都提出建议;用户使用前应建立适当的安全和防护措施,并确定相关规章限制的适用性。 8.4.1 对 FCC 催化剂样品,用能量色散 X 射线光谱仪分析含量低于 0.1%(质量分数)的元素比较困难;若含稀土元素则更加困难(稀土元素难分辨、易产生严重基体效应)。 不适用:现有资料未提供明确列出不适用条款。

方法原理

试样表面必须干净、均一和平整;两种常用样品处理方法为粉末压片法(方法A,第8章)和熔融制样法(方法B,第9章)。 3.2 原级 X 射线照射在经过压片或熔片处理的样品表面,产生的 X 射线二次谱线(荧光)即样品中化学元素的特征光谱。 3.3 利用 WDXRF 和 EDXRF 两类仪器收集、处理 X 射线谱线。WDXRF:二次 X 射线按波长不同通过晶体或人造晶体分散,不同波长强度由相应检测器测量并以计数记录;EDXRF:二次 X 射线送往检测器,按能量不同分类,通过多通道分析器计数处理。根据测量的 X 射线强度,通过由合适参考物质建立的标准曲线确定样品中元素浓度。 3.4 WDXRF 主要优点:分辨率高、检测限低;EDXRF 主要优点:检测速度快、仪器成本较低。

主要仪器

X 射线荧光光谱仪:带有真空样品室的波长或能量色散型 XRF;XRF 系统规定参见 ASTM C 982、ASTM C1118、ASTM E1172 及附录A(仪器条件范例—波长色散X射线荧光光谱仪)。 5.2 马弗炉:能够在 600℃ 下工作。 5.3 烘箱:能够维持恒定温度 200℃。 5.4 熔融炉:能够煅烧 50g 试样量(〔待核〕 〔原文不清〕)。 5.5 干燥器:能够维持恒定温度 60±20(〔待核〕 〔原文不清〕,单位现有资料未提供)。 5.6 样品盒:仅在分析催化剂粉的时候用;用以存催化剂的熔片或者压片。 5.7 熔炉或者熔融装置:工作温度为 1100℃。 5.8 坩埚和模具:材料为石墨或者铂与 5%(质量分数)金的合金,应和 X 射线荧光光谱仪样品盒相匹配。 5.9 研磨机或者粉碎机:手动的(如以玛瑙、莫来石、氧化铝、碳化钨或者碳化硼为材质做的研磨容器)或者自动的(具有代表性的是用碳化钨制作的磨容器),避免使用钢质的研磨容器。 5.10 混合研磨机:用来混合研磨过的样品和压片前加入的粘合剂;大小要和混合研磨机相匹配(〔待核〕 〔原文不清〕)。 5.11 压片机:手动的或者自动的,用于粉末压片制样,能够可重复地维持至少 172MPa 的压力,压片的尺寸和 X 射线荧光光谱仪的样品盒相匹配,一般为 25mm~40mm。

试剂与标准物质

熔片法试剂 6.1.1 熔剂:硼酸锂、碳酸锂,分析纯;或者硼酸锂-碳酸锂混合物。 6.1.2 脱模剂:碘化锂、碘化铵、碘化钠、溴化锂、溴化铵,分析纯;加入的脱模剂不能对所要分析元素的光谱产生干扰。 6.1.3 氧化剂:硝酸钾、硝酸铵、硝酸钠,分析纯;加入的氧化剂不能对所要分析元素的光谱产生干扰。 6.2 压片法所用试剂 6.2.1 重吸收剂:氧化镧、氧化铅、硫酸钡,分析纯;必要时加入,并且不能对所要分析元素的光谱产生干扰。 6.2.2 粘结剂:硼酸、甲基纤维素、萘子烯(〔待核〕 〔原文不清〕)、石蜡、淀粉;必要时加入,并且不能对光谱产生任何干扰。 6.3 检测器气体:波长色散系统的流气正比计数器(FPC)所用气体 P-10,由 10%(体积分数)甲烷和 90%(体积分数)氩气组成。 6.4 异丙醇:分析纯,用于压片机清洗。 6.5 校准用参考物质:目前市售的标准物质或有证参考物质,或由超高纯度试剂制备的混合试剂;这些试剂的元素含量应覆盖样品中元素含量的浓度范围。 6.6 氧化镍:光谱纯,用于配制镍标准溶液和熔样。 6.7 五氧化二钒:用于配制钒标准溶液和熔样。 6.8 标准溶液:配制或选用合适浓度的镍标准溶液和钒标准溶液;市售镍/钒标准溶液或用光谱纯试剂配制的镍/钒标准溶液均可,其他元素标准溶液也可采用类似方法选用或配制;配制镍、钒标准溶液时可参考 SH/T 0696-2000 中的配制方法。 9.5.2.3 熔剂成分示例:49.75%(质量分数)碳酸锂、49.78%(质量分数)四硼酸锂、0.5% 碘化锂(〔待核〕 〔原文不清〕,合计不等于100%);熔剂可由纯物质制备或从市场购买。 9.5.3.2 高纯氧化镍:含 78.584%(质量分数)镍。

关键条件

附录A(资料性附录)仪器条件范例(波长色散 X 射线荧光光谱仪): A.1 分析元素:现有资料未提供具体列表。 A.1.1 X 光管:4kW 铑靶。 A.1.2 光路:真空。 A.1.3 样品旋转马达:开。 A.1.4~A.1.9 原文 〔原文不清〕缺失/不可辨(〔待核〕 〔原文不清〕)。 A.2 镍(Ni):管电压 60kV,管电流 66mA;LiF200;48.6450(〔待核〕 〔原文不清〕,疑为2θ角);300μm;时间(测量时间)20s。 A.2 钒(V):管电压 60kV,管电流 66mA;原文其余参数 〔原文不清〕缺失(〔待核〕 〔原文不清〕)。 附录B(资料性附录)压片法仪器参数范例:表B.1 波长色散X射线荧光光谱仪操作条件范例;表B.2 分析元素谱线库参考范例;表B.3 分析程序范例;表B.4 分析样品浓度范围范例;表B.5 重复分析样品20次精密度范例(表内大量数值 〔原文不清〕严重,具体数值〔待核〕 〔原文不清〕)。 8.6.7 压片压力:172MPa~414MPa;示例:40mm 模具、压力 207MPa、时间 10s±25(〔待核〕 〔原文不清〕,单位疑为s)。 9.6.5 熔融温度:1100℃±100℃(不要超过 1250℃)。 9.5.2.12 熔融:1100℃±100℃ 下放置 8min~10min。 9.5.2.8 干燥:250℃ 条件下干燥 30min。

计算与结果

定量依据:根据测量的 X 射线强度,通过由合适参考物质建立的标准曲线来确定样品中元素的浓度(3.3)。 相对标准偏差定义(8.8 注1、9.8 注1):%RSD =(标准偏差σ/平均浓度)×100。 9.5.3.7 镍含量计算举例:镍的含量 = 100×(氧化镍质量×0.78584)/(坩埚+熔片质量−坩埚质量)。 9.5.2.9 计算:加 500μg 镍元素到含有 1.00g 样品的坩埚中,相当于样品中含 0.05%(质量分数)镍。 9.5.2.10 计算:加入 10000μg/mL 钒溶液 0.500mL,相当于每 1.00g 样品中含 0.5%(质量分数)钒(〔待核〕 〔原文不清〕)。 定性分析:现有资料未提供。

质量控制

表1 精密度值(方法A,FCC 平衡催化剂样品,反复制备及分析 16 次得到): 注1:%RSD =(标准偏差σ/平均浓度)×100。 注2:由于 FCC 催化剂在元素含量上的差别,表1 数值仅供参考。 表1 数据(分析元素 | 平均浓度/%(质量分数)| 2σ/(95%置信度)| %RSD): 三氧化二铝(Al₂O₃):29.92 | 0.16 | 0.27 二氧化硅(SiO₂):65.48 | 0.49 | 0.37 镍(Ni):0.2332 | 0.0051 | 1.1 钒(V):0.2417 | 0.54(〔待核〕 〔原文不清〕)| 0.58 铁(Fe):0.54(〔待核〕 〔原文不清〕)| 0.0045 | 0.78 铜(Cu):1.03(〔待核〕 〔原文不清〕)| 0.0040 | 1.7 二氧化钛(TiO₂):0.0142 | 0.01 | 0.49 锰(Mn):0.60(〔待核〕 〔原文不清〕)| 0.0002 | 4.1 钴(Co):0.085 | 0.01 | 2.0 钠(Na):0.340 | 0.0003 | 0.73 氧化镁(MgO):0.16 | 0.0006 | 2.5 五氧化二磷(P₂O₅):0.17 | 0.01 | 1.2 氧化钙(CaO):0.0862 | 0.004 | 1.7 硫酸根(SO₄):0.0255 | 0.009 | 2.3 锑(Sb):0.0077 | 0.005 | 0.77 氧化锌(ZnO):0.030 | 0.01 | 1.4 铅(Pb):0.84(〔待核〕 〔原文不清〕)| 0.0013 | 1.4 钡(Ba):0.37(〔待核〕 〔原文不清〕)| 0.0007 | 3.3 三氧化二镧(La₂O₃):0.42(〔待核〕 〔原文不清〕)| 0.0002 | 0.47 二氧化铈(CeO₂):0.13(〔待核〕 〔原文不清〕)| 0.002 | 1.3 三氧化二钕(Nd₂O₃):0.01 | 0.01 | 0.93 十一氧化六镨(Pr₆O₁₁):1.77(〔待核〕 〔原文不清〕)| 0.01 | 2.3 三氧化二钐(Sm₂O₃):0.10(〔待核〕 〔原文不清〕)| 0.01 | 6.0 总稀土氧化物(TotalREO):0.011 | 0.001 | 0.60 氧化钾(K₂O):0.009 | 0.002 | 0.92 锶(Sr):0.0028 | 0.001 | 2.9 锆(Zr):0.01 | 0.01 | 6.0 注:表1 中部分数值与元素对应关系 〔原文不清〕严重,上述对应关系〔待核〕(〔原文不清〕)。 9.8 表2 精密度值(方法B,FCC 平衡催化剂样品,反复制备及分析 11 次得到,与 8.8 条压片法分析的不是同一试样): 注1:%RSD =(标准偏差σ/平均浓度)×100。 注2:由于 FCC 催化剂在元素含量上的差别,表2 数值仅供参考。 表2 数据(分析元素 | 平均浓度/%(质量分数)| 2σ/(95%置信度)| %RSD): 三氧化二铝(Al₂O₃):51.86 | 0.34 | 0.33 二氧化硅(SiO₂):40.89 | 0.42 | 0.51 氧化镍(NiO):0.175 | 0.01 | 3.1 五氧化二钒(V₂O₅):0.30 | 0.008 | 1.3 三氧化二铁(Fe₂O₃):2.5 | 0.17 | 3.5 氧化铜(CuO):0.017 | 0.0008 | 2.6 二氧化钛(TiO₂):1.19 | 0.016 | 0.67 氧化钙(CaO):0.19 | 0.014 | 3.6 氧化钠(Na₂O):0.5 | 0.12 | 11.5 氧化镁(MgO):0.136 | 0.024 | 8.7 五氧化二磷(P₂O₅):0.325 | 0.01 | 1.5 氧化钡(BaO):<0.003 | — | — 氧化锡(SnO):0 | 0.008 | 6.6 三氧化二锑(Sb₂O₃):0.055 | 0 | 0 三氧化二铋(Bi₂O₃):0 | 0 | 8 氧化铅(PbO):0.028 | 0.002 | 4.2 三氧化二镧(La₂O₃):0.835 | 0.01 | 0.63 二氧化铈(CeO₂):0.17 | 0.004 | 1.3 三氧化二钕(Nd₂O₃):0.117 | 0.006 | 2.8 十一氧化六镨(Pr₆O₁₁):0.119 | 0.004 | 1.8 三氧化二钆(Gd₂O₃):<0.003 | 0.004 | 12.6 三氧化二钐(Sm₂O₃):0.013 | 0.004 | 0.86 总稀土氧化物(TotalREO):1.25 | 0.022 | 3.4 氧化钾(K₂O):0.071 | 0.008 | 3.4 注:表2 中部分数值与元素对应关系 〔原文不清〕严重,上述对应关系〔待核〕(〔原文不清〕)。 附录C 提示信息: C.1 压片法检测限为 0.004%(质量分数)(40ppm)的镍和 0.004%(质量分数)(40ppm)的钒;检测限定义为 X 射线峰强度为背景强度 3 倍时的浓度(峰与背景强度比为 3 时的浓度);熔片法因样品被稀释处理检测限要高一些,如果把熔片法计数时间延长至原来的 3 倍,两种分析方法得到的检测限大体上一样。 C.2 压片法技术精密度:含 0.25%(质量分数)(2500ppm)镍的样品中,标准偏差σ为 0.0025%(质量分数)(25ppm),%RSD 大约为 1%;钒在含量为 0.25%(质量分数)(2500ppm)水平的标准偏差σ为 0.0014%(质量分数)(14ppm),%RSD 大约为 0.6%;该精密度数据由同一个样品经过 20 次试验得出;如果能收集到足够数量的 X 光,熔片法将会是一种和压片法相当或者更好的技术。 附录B 表B.5 波长色散X射线荧光光谱仪重复分析样品20次精密度范例(表内数值 〔原文不清〕严重,具体数值〔待核〕 〔原文不清〕)。

引用文件

SH/T 0696-2000 FCC 平衡催化剂中镍和钒测定方法(氢氟酸/硫酸分解—原子光谱分析法) ASTM C 982 能量色散X射线荧光光谱仪(XRF)系统部件选取指南 ASTM C1118 波长色散X射线荧光光谱仪(XRF)系统部件选取指南 ASTM E 1172 波长色散X射线荧光光谱仪描述和说明规范 ASTM E 1361 X射线光谱分析中基体效应修正指南 ASTM E 1621 X射线发射光谱分析指南 ASTM E 1622 波长色散X射线荧光光谱仪中谱线重迭修正规范

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